(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210241225.0 (22)申请日 2022.03.11 (71)申请人 中国科学院长春光学精密机 械与物 理研究所 地址 130033 吉林省长 春市经济技 术开发 区东南湖大路38 88号 申请人 北京科益虹源光电技 术有限公司 (72)发明人 糜小涛　周敬萱　江思博　高键翔　 于宏柱　巴音贺希格 　江锐　 徐向宇　刘广义　 (74)专利代理 机构 长春中科长光知识产权代理 事务所(普通 合伙) 22218 专利代理师 高一明 (51)Int.Cl. B08B 3/08(2006.01)B08B 3/02(2006.01) B08B 11/02(2006.01) B08B 11/04(2006.01) B08B 13/00(2006.01) C23C 14/02(2006.01) C23C 14/30(2006.01) C23C 14/14(2006.01) (54)发明名称 光栅基底清洗装置及其清洗方法 (57)摘要 本发明提供一种光栅基底清洗装置及其清 洗方法， 其中的清洗装置包括： 基底固定座， 用于 固定光栅基底； 位于基底固定座下方的清洗池， 在清洗池内装有用于清洗光栅基底的酸溶液； 升 降机构， 分布于基底固定座的两侧； 连接轴， 连接 轴的一端与基底固定座固定连接， 连接轴的另一 端通过球头万向节与升降机构转动连接。 本发明 在保证操作便捷的基础上， 确保光栅基底清洗的 工艺过程完整可靠， 使最终制备出的大尺寸中阶 梯光栅金属膜层具 备良好的附着力。 权利要求书1页 说明书4页 附图1页 CN 114589148 A 2022.06.07 CN 114589148 A 1.一种光 栅基底清洗装置， 其特 征在于， 包括： 基底固定座， 用于固定光 栅基底； 位于所述基底固定座下方的清洗池， 在所述清洗池内装有用于清洗所述光栅基底的酸 溶液； 升降机构， 分布于所述基底固定座的两侧； 连接轴， 所述连接轴的一端与所述基底固定座固定连接， 所述连接轴的另一端通过球 头万向节与所述升降机构转动连接 。 2.如权利要求1所述的光栅基底清洗装置， 其特征在于， 所述升降机构为直线滑台或直 线导轨， 所述直线滑台或所述直线导轨包括滑轨和滑块， 所述滑块在所述滑轨上滑动， 所述 球头万向节与所述滑块 转动连接 。 3.如权利要求2所述的光栅基底清洗装置， 其特征在于， 在所述基底固定座上开设有供 顶丝穿过的螺纹通 孔， 通过所述顶丝将所述 光栅基底固定在所述基底固定座上。 4.一种利用权利要求3所述的光栅基底清洗装置的清洗方法， 其特征在于， 包括如下步 骤： S1、 将光栅基底固定到基底固定座上， 通过旋转所述基底固定座， 使所述光栅基底的镀 膜面朝向清洗池； S2、 通过调节所述基底固定座两侧的升降机构， 使所述光栅基底 的镀膜面浸没在所述 清洗池内的酸溶 液中， 以去除表面油污及杂质； S3、 通过调节所述基底固定座两侧的升降机构， 使所述光栅基底 的镀膜面离开所述清 洗池， 并将所述基底固定座旋转180 °， 使所述光栅基底的镀膜面朝向上 方； S4、 通过去离子水冲洗所述光栅基底的镀膜面， 并通过乙醇和乙醚的混合溶液擦拭所 述光栅基底的镀膜面； S5、 对所述光栅基底 的镀膜面喷涂清洁保护剂， 待所述清洁保护剂完全干燥后形成保 护膜层， 去除所述保护膜层将所述光栅基底的镀膜面擦拭残留的杂质 颗粒及灰尘颗粒清 除。 5.如权利要求4所述的光栅基底清洗装置的清洗方法， 其特征在于， 在步骤S4中， 通过 去离子水冲洗所述光栅基底的镀膜面之前， 先通过调节所述基底固定座两侧的升降机构， 使所述光栅基底的镀膜面以预设角度倾 斜于水平面； 在步骤S5中， 对所述光栅基底 的镀膜面喷涂清洁保护剂之前， 调节所述基底固定座两 侧的升降机构， 将所述 光栅基底调至水平。 6.如权利要求4或5所述的光栅基底清洗装置的清洗方法， 其特征在于， 在步骤S1中， 锁 紧所述光栅基底上的顶丝， 将所述 光栅基底固定 。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 114589148 A 2光栅基底清洗装 置及其清洗方 法 技术领域 [0001]本发明涉及 光栅基底清洗技术领域， 特别涉及一种光栅基底清洗装置及其清洗方 法。 背景技术 [0002]大尺寸、 大闪耀角、 高衍射效率的中阶梯光栅是高端光刻机浸没式光刻光源的核 心单元器件， 其主要是利用中阶梯光栅的高性能来实现准分子激光器线宽压窄， 从而保证 光刻机系统的成像曝光质量。 中阶梯光栅的槽形复杂苛刻， 其母版光栅的制作只能采用机 械刻划方法来完成。 机械刻划方法制作光栅， 其原理是利用金刚石刻刀对镀在光栅基底上 的金属膜层进行挤压抛光， 在金属膜层表面刻制出具有纳米精度的周期性三角槽形结构。 从中阶梯光 栅的制作原理可以看出， 制备 金属膜层的质量将直接影响中阶梯光 栅的性能。 [0003]高质量机械刻划用金属膜层， 是指金属膜层具备良好的均匀性、 附着力及内部致 密性， 而对于中阶梯光栅金属膜层而言， 金属膜层的均匀 性和致密性可以通过调整真空室 布局(电子枪位置及工件架高度)、 沉积 速率、 基底温度等方法得到很好的保证， 需要重点解 决的是光栅基底与金属膜层之间附着力的问题。 由于中阶梯光栅的刻划 面积较大， 因此需 要较长的刻划时间， 在此过程中金刚石刻刀对金属膜层产生较大 的作用力， 若膜层附着力 达不到要求极易出现脱膜的情况， 导致刻划 光栅母版制作失败， 因此膜层附着力是中阶梯 光栅金属膜层高质量的重要体现。 除在光栅基底与金属膜层之 间制备一层过渡膜层的方法 之外， 镀膜前对光栅基底的清洁也是保证膜层附着力的关键工艺环节， 结合中阶梯光栅尺 寸较大、 不便 于操作的特难点， 亟需设计一套光 栅基底清洗装置 。 发明内容 [0004]本发明的目的是为了克服已有技术的缺陷， 提出一种光栅基底清洗装置及其清洗 方法， 以解决中阶梯光 栅尺寸较大导 致光栅基底清洁不够便捷的难点问题。 [0005]为实现上述目的， 本发明采用以下 具体技术方案： [0006]本发明提供的光栅基底清洗装置， 包括： 基底固定座， 用于固定光栅基底； 位于基 底固定座下方的清洗池， 在清洗池内装有用于清洗光栅基底的酸溶液； 升降机构， 分布于基 底固定座的两侧； 连接轴， 连接轴的一端与基底固定座固定连接， 连接轴的另一端通过球头 万向节与升降机构转动连接 。 [0007]优选地， 升降机构为直线滑台或直线导轨， 直线滑台或直线导轨包括滑轨和滑块， 滑块在滑轨上滑动， 球头万向节与滑块 转动连接 。 [0008]优选地， 在基底固定座上开设有供顶丝穿过的螺纹通孔， 通过顶丝将光栅基底固 定在基底固定座上。 [0009]本发明提供的利用上述 光栅基底清洗装置的清洗方法， 包括如下步骤： [0010]S1、 将光栅基底固定到基底固定座上， 通过旋转基底固定座， 使光栅基底的镀膜面 朝向清洗池；说　明　书 1/4 页 3 CN 114589148 A 3