(19)国家知识产权局 (12)发明 专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 202210196444.1 (22)申请日 2022.03.02 (65)同一申请的已公布的文献号 申请公布号 CN 114260218 A (43)申请公布日 2022.04.01 (73)专利权人 智程半导体设备 科技 （昆山） 有限 公司 地址 215316 江苏省苏州市昆山市玉山 镇 玉杨路299号3号房 (72)发明人 万帮勇　胡荪葳　张祥　 (74)专利代理 机构 南京纵横知识产权代理有限 公司 32224 专利代理师 董建林 (51)Int.Cl. B08B 1/00(2006.01)B08B 1/04(2006.01) B08B 3/02(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (56)对比文件 US 2005118938 A1,20 05.06.02 JP 2018086 692 A,2018.0 6.07 JP 2001007069 A,2001.01.12 TW M515694 U,2016.01.1 1 CN 207338322 U,2018.0 5.08 JP 2000070875 A,20 00.03.07 CN 215617908 U,202 2.01.25 CN 208570 577 U,2019.0 3.01 审查员 石夫雨 (54)发明名称 一种晶圆片表面清洁装置及方法 (57)摘要 本发明公开了一种晶圆片表面清洁装置及 方法， 包括清洁槽以及设于清洁槽内的清扫机 构、 清洗机构和晶圆片运移机构； 所述清扫机构 包括立杆、 驱动块和清扫刷， 所述驱动块与立杆 在竖直方向滑动连接， 所述 驱动块与清扫刷相连 且能够驱动清扫刷转动； 所述清洗机构包括与清 洁槽在竖直方向滑动连接的清洗组件， 所述清洗 组件用于喷淋清洗晶圆片； 所述晶圆片运移机构 包括立筒、 转筒、 伸缩杆和晶圆片夹持组件， 所述 转筒设于立筒上部且能够相对立筒转动， 所述转 筒连接有若干伸缩杆， 所述伸缩 杆末端设有若干 晶圆片夹持组件， 所述晶圆片夹持组件用于夹持 不同尺寸的晶圆片。 本发明适用范围广， 晶圆片 表面清洁 效率高、 清洁 效果好。 权利要求书2页 说明书6页 附图9页 CN 114260218 B 2022.05.17 CN 114260218 B 1.一种晶圆片表面清洁装置， 其特征在于， 包括清洁槽以及 设于清洁槽 内的清扫机构、 清洗机构和晶圆片运移机构； 所述清扫机构包括立杆、 驱动块和清扫刷， 所述驱动块与立杆在竖直方向滑动连接， 所 述驱动块与清扫刷相连且能够驱动清扫刷转动； 所述清洗机构包括与清洁槽在竖直方向滑动连接的清洗组件， 所述清洗组件用于喷淋 清洗晶圆片； 所述晶圆片运移机构包括立筒、 转筒、 伸缩杆和晶圆片夹持组件， 所述转筒设于立筒上 部且能够相对立筒转动， 所述转筒连接有若干伸缩杆， 所述伸缩杆末端设有若干晶圆片夹 持组件， 所述晶圆片夹持组件用于 夹持不同尺寸的 晶圆片； 所述清扫刷包括组合设置的主刷和副刷； 所述主刷包括主刷杆以及安装于主刷杆的若干组主刷毛， 各组主刷毛间隔设置， 所述 主刷杆对应各组主刷毛间隔的位置设有副刷通 孔， 所述主刷杆的两端设有螺 栓孔； 所述副刷包括副刷杆以及安装于副刷杆的若干组副刷毛， 各组副刷毛对应副刷通孔设 置， 所述副刷杆的两端安装有调节螺 栓； 所述副刷和主刷组合 安装时， 各组副刷毛贯 穿副刷通 孔， 调节螺 栓安装于 螺栓孔内。 2.根据权利要求1所述的晶圆片表面清洁装置， 其特征在于， 所述清洁槽的内表面设有 第一滑槽， 所述立杆底部设有第一滑块， 所述第一滑块安装于第一滑槽内且能够在第一滑 槽内滑动； 所述立杆设有竖直方向的第二滑槽， 所述驱动块连接有第二滑块， 所述第二滑块安装 于第二滑槽内且能够 在第二滑槽内滑动， 所述第二滑块上安装有用于固定的第一螺 栓； 所述驱动 块内设有第 一电机， 所述第 一电机的输出轴与清扫刷相连且能够驱动清扫刷 转动。 3.根据权利要求1所述的晶圆片表面清洁装置， 其特征在于， 所述清洗组件包括水箱以 及与水箱相连的防护罩， 所述防护罩内设有喷水盘， 所述喷水盘通过水管与水箱相连， 所述 水箱连接有外 接水管； 所述水箱 的侧壁设有第三滑块， 所述清洁槽设有立柱， 所述立柱上设有竖直方向的第 三滑槽， 所述第三滑块安装于第三滑槽内且能够沿第三滑槽滑动， 所述立柱顶部设有第一 气缸， 所述第一气缸与水箱相连且能够驱动水箱 移动。 4.根据权利要求3所述的晶圆片表面清洁装置， 其特征在于， 所述防护罩内架设有横 杆， 所述横杆上套有滑套， 所述滑套通过第二螺栓固定， 所述喷水盘安装于滑套底部， 与喷 水盘相连的所述水管螺旋缠绕于横杆外部； 所述喷水盘表面设有内喷水圈以及均匀分布于 内喷水圈外围的外喷水口。 5.根据权利要求1所述的晶圆片表面清洁装置， 其特征在于， 所述立筒内设有第 二气缸 和第二电机， 所述第二气缸 的推杆上安装第二电机， 所述第二电机的输出轴与转筒相连且 能够带动转筒转动。 6.根据权利要求1所述的晶圆片表面清洁装置， 其特征在于， 所述伸缩杆设有若干调节 孔， 所述转筒连接有与伸缩杆对应设置的套壳， 所述伸缩杆贯穿套壳安装且通过第三螺栓 固定， 所述第三螺栓与调节孔相匹配； 所述伸缩杆的端部连接有支撑板， 所述支撑板上安装 有若干晶圆片夹持组件。权　利　要　求　书 1/2 页 2 CN 114260218 B 27.根据权利要求1所述的晶圆片表面清洁装置， 其特征在于， 所述晶圆片夹持组件包括 相对设置的第一夹持块和第二夹持块， 所述第一夹持块连接有滑杆， 所述第二夹持块可拆 卸式安装于滑杆外 部且能够沿滑杆移动； 所述第一夹持块和第 二夹持块分别设有相对设置的第 一夹持平台和第 二夹持平台， 所 述第一夹持平台和 第二夹持平台的侧边呈弧形， 所述第一夹持块和第二夹持块上设有分别 伸出至第一夹持平台和第二夹持平台上 方的硅胶限位条。 8.根据权利要求7所述的晶圆片表面清洁装置， 其特征在于， 所述第 二夹持块底部连接 有螺杆， 所述螺杆上套接有两个平行设置的支撑台， 所述支撑台滑动连接有调节板， 所述调 节板的末端连接有支撑梁， 两个支撑梁间滑动连接有第一限位弧条和第二限位弧条， 所述 第一限位弧条和 第二限位弧条所在平面的夹角为 15~30°； 所述第二夹持块翻转安装于滑杆 外部时， 所述第一限位弧条和第二限位弧条与第一夹持平台相对设置 。 9.一种采用权利要求1~8任一项所述的晶圆片表面清洁装置清洁晶圆片的方法， 其特 征在于， 包括以下步骤： 沿立杆滑动驱动块以调节 清扫刷的位置， 使清扫刷位于晶圆片夹持组件上表面； 调节清洗组件的高度使清洗组件位于晶圆片夹持组件的上 方； 将待清洁晶圆片安装于晶圆片夹持组件上； 转筒相对立筒转动， 带动晶圆片夹持组件移动， 晶圆片依次经过清扫刷清扫以及清洗 组件的喷淋清洗， 完成表面清洁。权　利　要　求　书 2/2 页 3 CN 114260218 B 3