(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202210885834.X (22)申请日 2022.07.26 (71)申请人 四川新健康成生物 股份有限公司 地址 610000 四川省成 都市高新区天欣路 101号 (72)发明人 卢洹　李治城　张建　郭建娟　 林源　 (74)专利代理 机构 成都行之智 信知识产权代理 有限公司 5125 6 专利代理师 李林 (51)Int.Cl. G01N 21/01(2006.01) G01J 3/02(2006.01) (54)发明名称 后分光光度计的PDA和出射狭缝相对位置的 调试方法 (57)摘要 本发明公开了一种后分光光度计的PDA和出 射狭缝相对位置的调试方法， 包括以下步骤： 将 478nm波长通道的目标放大电阻和505nm波长通 道的目标放大电阻设置成相同； 将入射光的光斑 位置调至凹面光栅衍射面的有效区域； 将凹面光 栅衍射面的衍射光的位置调至滤光片的有效区 域； 将比色皿内加入采集液， 置于前后透镜组件 规定的位置， 循环采集； 不断调整PDA的位置直至 478nm波长通道的AD值为505nm波长通道的AD值 的二分之一时停止； 调试所需的时间短， 对操作 人员的要求 也降低了 。 权利要求书1页 说明书8页 附图1页 CN 115235994 A 2022.10.25 CN 115235994 A 1.一种后分光光度计的PDA和出射狭缝相对位置的调试方法， 其特征在于， 所述调试方 法包括以下步骤： 将478nm波长通道的目标放大电阻和5 05nm波长通道的目标放大电阻设置成相同； 将入射光的光斑位置调至凹面 光栅衍射面的有效区域； 将凹面光栅衍射面的衍射光的位置调至滤光片的有效区域； 将比色皿内加入 采集液， 置 于前后透 镜组件规定的位置， 循环采集； 不断调整PDA的位置直至478nm波长通道的AD值为505nm波长通道的AD值的二分之一时 停止。 2.根据权利要求1所述的后分光光度计的PDA和出射狭缝相对位置的调试方法， 其特征 在于， 所述目标放大电阻为1～5兆欧。 3.根据权利要求2所述的后分光光度计的PDA和出射狭缝相对位置的调试方法， 其特征 在于， 所述目标放大电阻为1～3兆欧。 4.根据权利要求3所述的后分光光度计的PDA和出射狭缝相对位置的调试方法， 其特征 在于， 所述目标放大电阻为1兆欧。 5.根据权利要求1所述的后分光光度计的PDA和出射狭缝相对位置的调试方法， 其特征 在于， 所述纯化水的加入量 为石英比色皿 容积的二分之一至三分之二。 6.根据权利要求1所述的后分光光度计的PDA和出射狭缝相对位置的调试方法， 其特征 在于， 在调整P DA的位置的过程中光强度的计算公式为 I＝Nhv/At， 其中： I为光强度， 单位： cd； N为时间间隔t内照到P DA采光面积上的光子总数， 单位： 个； h为普朗克常数， 6.626 069311×10^‑34J·s； v为光子照射的频率， 单位： H z； A为PDA采光面积， 单位： ㎡； t为时间间隔， 单位： s。 7.根据权利要求6所述的后分光光度计的PDA和出射狭缝相对位置的调试方法， 其特征 在于， 所述 478nm对应P DA感光面阵列8， 所述5 05nm的二分之一对应P DA感光面阵列9。 8.根据权利要求7所述的后分光光度计的PDA和出射狭缝相对位置的调试方法， 其特征 在于， 所述 478nm的光强度为所述5 05nm的光强度的二分之一。 9.根据权利要求1所述的后分光光度计的PDA和出射狭缝相对位置的调试方法， 其特征 在于， 所述比色皿 为石英比色皿。 10.根据权利要求1所述的后分光光度计的PDA和出射狭缝相对位置的调试方法， 其特 征在于， 所述采集液为纯化水。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 115235994 A 2后分光光度计的PDA和出射狭缝相对位置的调试方 法 技术领域 [0001]本发明涉及分光光度计操作技术领域， 具体涉及一种后分光光度计的PDA和出射 狭缝相对位置的调试 方法。 背景技术 [0002]分光光度计是目前生化分析仪光学系统上主要采用的设备之一， 使用分光光度计 时需要确保PDA感光面的阵列与出射狭缝的各波长通道准确对应， 现有调整方法主要有以 下两种： 第一： 一般采用反复测试数据， 反复调整两者的相对位置关系， 从而使需求波长通 道的吸光度准确性达标， 但是这种方法存在操作难度特别大和特变耗费工时的缺点； 第二： 采用将PDA和出射狭缝置于高倍放大镜下， 观察PDA阵列和出射狭缝各波长通道的位置， 逐 步调整， 从而使出射狭缝上的波长通道和PDA阵列对应， 然后点胶固定， 该方法操作难度较 大， 耗费工时， 对操作人员要求较高， 并且一 旦点胶固定出射狭缝后， 则不可 再次进行调试。 发明内容 [0003]本发明的目的在于提供一种后分光光度计的PDA和出射狭缝相对位置的调试方 法， 以解决上述两种调试方法各自存在的问题， 该调试方法操作简单、 对操作人员基本 没要 求且在478nm波长通道的目标放大电阻和 505nm波长通道的目标放大电阻相同的情况下前 者AD值为后者的一半时即表明P DA感光面阵列和出射狭缝 各波长通道位置已经对准。 [0004]本发明提供一种后分光光度计 的PDA和出射狭缝相对位置的调试方法， 包括以下 步骤： [0005]将478nm波长通道的目标放大电阻和5 05nm波长通道的目标放大电阻设置成相同； [0006]将入射光的光斑位置调至凹面 光栅衍射面的有效区域； [0007]将凹面光栅衍射面的衍射光的位置调至滤光片的有效区域； [0008]将比色皿内加入 采集液， 置 于前后透 镜组件规定的位置， 循环采集； [0009]不断调整PDA的位置直至478nm波长通道的AD值为505nm波长通道的AD值的二分之 一时停止 。 [0010]本发明的有益效果： 本 发明只需要将 478nm波长通道的目标放大电阻和505nm波长 通道的目标放大电阻相同， 在调整PDA的位置过程中当478nm波长通道的AD值为505nm波长 通道的AD值的二分之一时即可表明PDA感光面阵列和出射狭缝各波长通道位置已经对准， 由此可知， 本发明公开的调试方法操作简单、 对操作人员要求不高以及所需时间短， 因此值 得推广使用。 [0011]作为一种可能的实现方式， 所述目标放大电阻为1～5兆欧， 有利于两个波长通道 的光亮数据的观察和对比。 [0012]作为一种可能的优选方式， 所述目标放大电阻为1～3兆欧， 两个波长通道的光亮 数据的观察和对比较为 容易。 [0013]作为一种可能的更优选方式， 所述目标放大电阻为1兆欧， 两个波长通道的光亮数说　明　书 1/8 页 3 CN 115235994 A 3