(19)国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202211310381.4 (22)申请日 2022.10.25 (71)申请人 华中科技大 学 地址 430074 湖北省武汉市洪山区珞喻路 1037号 (72)发明人 陈建魁　吴佳辉　尹周平　张舟　 (74)专利代理 机构 华中科技大 学专利中心 42201 专利代理师 尹丽媛 (51)Int.Cl. G01N 21/01(2006.01) G01N 21/95(2006.01) (54)发明名称 新型显示器件喷印制造中薄膜成膜质量监 测方法及系统 (57)摘要 本发明属于喷墨印刷制造技术领域， 具体涉 及新型显示器件喷印制造中薄膜成膜质量监测 方法及系统， 包括： 在喷墨打印系统上配置薄膜 喷墨打印腔和流平固化腔以外的另一腔体空间， 在该腔体空间中， 对完成喷墨打印并流平固化后 的基板， 计算其中测试图案各采样点坐标， 依次 采用非接触式白光垂直扫描干涉传感器对各采 样点处进行边缘二维数据测量， 判定各采样点处 的边缘直线性是否达标； 计算其中待测Panel边 缘流平区域各采样点坐标， 以依次采用上述传感 器对各采样点处进行边缘三维数据在线测量， 判 定各采样点处的边缘剖面轮廓是否达标。 本发明 是一种无接触式薄膜边缘轮廓 在线检测方案， 能 够结合点膜厚在线测量满足喷墨印刷中大规模、 产业化的发展需求。 权利要求书5页 说明书14页 附图8页 CN 115541497 A 2022.12.30 CN 115541497 A 1.一种新型显示器件喷印制造中薄膜成膜质量 监测方法， 其特 征在于， 包括： 在喷墨打印系统上配置薄膜喷墨打印腔和流平固化腔以外的另一腔体空间； 将完成喷 墨打印并流平固化后的单张待测基板转移至所述腔体空间中； 在所述腔 体空间中执行以下 步骤， 实现新型显示器件喷印制造中薄膜成膜质量 监测： 计算当前待检测基板的检测区中每个测试图案的初始采样点坐标(x0,y0)； 调整每个测 试图案在X方向上和Y方向上初始采样点距离测试图案边缘的距离lx和ly以及X方向上采样 点数m和Y方向上采样点数n， 计算得到该测试图案各采样点坐标(x0,yj)和(xi,y0)； 基于各 采样点坐标， 依次采用非接触式白光垂 直扫描干涉传感器对各采样点处进 行边缘二 维数据 测量， 并判定各采样点处的边 缘直线性是否 达标； 计算当前待测基板中每个待测Panel上的相互为对角点的坐标(X0,Y0)、 (X1,Y1)， 作为初 始采样点坐标； 调整每个待测Panel在X方向上和Y方向上初始采样点距离Dam的距离lx和ly 以及X方向上采样点数m和Y方向上采样点数n， 使 各采样点落在直线 型Dam处所对应的区域， 计算该待测Panel边缘流平区域各采样点坐标(X0,yj)、 (X1,yj)、 (xi,Y0)、 (xi,Y1)； 基于各采 样点坐标， 依次采用非接触式白光垂直扫描干涉传感器对各采样点处进 行边缘三 维数据在 线测量， 并判定各采样点处的边 缘剖面轮廓是否 达标。 2.根据权利要求1所述的一种新型显示器件喷印制造中薄膜成膜质量监测方法， 其特 征在于， 在所述腔体空间内所执行 的步骤还包括： 对单张待测基板进行点膜厚一致性在线 监测； 其中， 当对发光区进行点膜厚检测且像素坑间距已知时， 实现方式为： 确定当前待测基板上每 个待测Panel发光区的初始采样点 坐标(x0,y0)； 确定每个待测Panel发光区在X方 向上和Y方向上初始采样点距离发光区边缘的距离lx 和ly以及X方向上采样点数m和Y方向上采样点数n， 计算该Panel发光区各采样点坐标(xi, yj)， 计算方式为： 其中， lx、 ly、 m和n的取值要满足： Dx为正整数倍的dx， Dy为正整数倍的dy， 以使得该待测Panel发光区的采样点落在 像素坑以外的、 较平整的间隔区域； 式中， Dx、 Dy分别为在X方向上和Y方向上每相邻两个采样 点之间的间距； dx为X方向上的像素坑间距； dy为Y方向上的像素块间距； Lx、 Ly分别为在X方 向上和Y方向上发光区尺寸， 为已知量； m为X方向上采样点数， n为Y方向上采样点数， 为待调 整量； lx、 ly分别为在X方向上和Y方向上初始采样点距离发光区边缘的距离， 为待调整量； la、 lb分别为在X 方向上和Y方向上发光区边 缘用于薄膜流平区域的长度， 为已知量； 采用薄膜点膜厚测量传感器依次采集各待测Panel发光区的各采样点坐标处的点膜 厚， 得到当前待测基板对应的点膜厚数据矩阵； 计算点膜厚数据矩阵中最大值与最小值的差值， 并将该差值与点膜厚数据矩阵中的数 据平均值做比值， 得到百分数， 若该百分数不大于阈值， 则判定 当前待测基板的膜厚均匀性 达标， 否则判定不达标。 3.根据权利要求2所述的一种新型显示器件喷印制造中薄膜成膜质量监测方法， 其特权　利　要　求　书 1/5 页 2 CN 115541497 A 2征在于， 当对发光区进行点膜厚检测且像素坑间距未知或像素坑排列不规则时， 实现方式 为： 确定当前待测基板上每 个待测Panel发光区的初始采样点 坐标(x0,y0)； 确定每个待测Panel发光区在X方 向上和Y方向上初始采样点距离发光区边缘的距离lx 和ly以及X方向上采样点数m和Y方向上采样点数n， 计算该待测Panel发光区各采样点坐标 (xi,yj)， 计算方式为： 其中， lx、 ly、 m和n的取值要满足： 式中， Dx、 Dy分别为在X方向上和Y方向上每相邻两个采样点之间的间距； Lx、 Ly分别 为在X方向上和Y方向上发光区尺寸， 为已知量； m为X方向上采样点数， n为Y方向上采样点 数， 为待调整量； lx、 ly分别为在X方向上和Y方向上初始采样点距离发光区边缘的距离， 为待 调整量； la、 lb分别为在X 方向上和Y方向上发光区边 缘用于薄膜流平区域的长度， 为已知量； 采用薄膜点膜厚测量传感器依次采集各Panel发光区的各采样点坐标处的点膜厚； 计 算各采样点处点膜厚的平均值， 保留小于该平均值的点膜厚数据， 并构成当前待测基板对 应的点膜厚矩阵数据； 计算点膜厚数据矩阵中最大值与最小值的差值， 并将该差值与点膜厚数据矩阵中的数 据平均值做比值， 得到百分数， 若该百分数不大于阈值， 则判定 当前待测基板的膜厚均匀性 达标， 否则判定不达标。 4.根据权利要求2所述的一种新型显示器件喷印制造中薄膜成膜质量监测方法， 其特 征在于， 当对基板侧边预留专用检测区进行点膜厚检测时， 实现方式为： 确定当前待检测基板的专用检测区中每 个测试图案的初始采样点 坐标(x0,y0)； 确定每个测试图案在X方向上和Y方向上初始采样点距离测试图案边缘的距离lx和ly以 及X方向上采样点数m和Y方向上采样点数n， 计算该测试图案各采样点坐标(xi,yj)， 计算方 式为： 其中， lx、 ly、 m和n的取值要满足： 以使 得该测试图案的采样点落在 薄膜相较边缘平整的区域； 式中， Dx、 Dy分别为在X方向上和Y方 向上每相邻两个采样点之间的间距； Lx、 Ly分别为在X方向上和Y方向上测试图案尺寸， 为已 知量； m为X方向上采样点数， n为Y方向上采样点数， 为待调整量； lx、 ly分别为在X方向上和Y 方向上初始采样点距离测试图案边缘的距离， 为待调 整量； la、 lb分别为在X方向上和Y方向 上测试图案边 缘用于薄膜流平区域的长度， 为已知量； 采用薄膜点膜厚测量传感器依次采集各测试图案的各采样点坐标处 的点膜厚， 得到当 前待检测基板的点膜厚数据矩阵； 计算点膜厚数据矩阵中最大值与最小值的差值， 并将该差值与点膜厚数据矩阵中的数 据平均值做比值， 得到百分数， 若该百分数不大于阈值， 则判定 当前待检测基板的膜厚均匀 性达标， 否则判定不达标。 5.根据权利要求2至4任一项所述的一种新型显示器件喷印制造中薄膜成膜质量监测权　利　要　求　书 2/5 页 3 CN 115541497 A 3