(19)国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告 号 (45)授权公告日 (21)申请 号 2021232790 02.3 (22)申请日 2021.12.24 (73)专利权人 达格测试设备 （苏州） 有限公司 地址 215151 江苏省苏州市高新区建林路 666号出口配套工业园7栋 (72)发明人 华徐浩　 (74)专利代理 机构 广州博联知识产权代理有限 公司 44663 专利代理师 孙倩倩 (51)Int.Cl. B08B 7/00(2006.01) B08B 13/00(2006.01) (54)实用新型名称 一种等离 子清洗系统 (57)摘要 本实用新型提出了一种等离子清洗系统， 主 要包括： 壳体、 反应腔、 RF射频电源、 RF调谐网络、 真空泵和配电箱， 其中， 所述壳体包括： 上壳体、 下壳体和侧壳体， 所述反应腔设置于下壳体上端 面， 所述反应腔包括： 上腔体和下腔体， 在所述侧 壳体内设置有升降装置， 所述上腔体连接于升降 装置并可随升降装置升降， 所述反应腔内设置有 电极板组件， 所述电极板组件与RF射频电源、 RF 调谐网络之间电连接， 所述真空泵与反应腔之间 管道连接。 通过上述方式， 集 成化的设计， 占地空 间较小， 适合于与大的流水线对接， 实现在线等 离子清洗。 权利要求书1页 说明书3页 附图2页 CN 216679376 U 2022.06.07 CN 216679376 U 1.一种等离子清洗系统， 其特征在于， 主要包括： 壳体、 反应腔、 RF射频电源、 RF调谐网 络、 真空泵和 配电箱， 其中， 所述壳体包括： 上壳体、 下壳体和侧壳体， 所述反应腔设置于下 壳体上端面， 所述反应腔包括： 上腔体和下腔体， 在所述侧壳体内设置有升降装置， 所述上 腔体连接于升降装置并可随升降装置升降， 所述反应腔 内设置有电极板组件， 所述电极板 组件与RF射频电源、 RF调谐网络之间电连接， 所述真空泵与反应腔之间管道连接 。 2.根据权利要求1所述的一种等离子清洗系统， 其特征在于， 所述上腔体包括： 反应腔 上盖、 第一电极板， 所述反应腔上盖与第一上极板之间形成第一密闭空间， 所述下腔体包 括： 反应腔下盖、 第二电极板， 所述反应腔下盖与第二电极板之间形成第二密闭空间， 所述 第一密闭空间与第二密闭空间内分别通入冷却液。 3.根据权利要求2所述的一种等离子清洗系统， 其特征在于， 所述上腔体与 下腔体之间 设置有密封装置 。 4.根据权利要求1所述的一种等离子清洗系统， 其特征在于， 所述真空泵与反应腔之间 通过真空阀和抽真空管道连接 。 5.根据权利要求4所述的一种等离子清洗系统， 其特征在于， 所述抽真空管道具有多个 均匀分散的管路分别连接至反应腔， 多个管路最 终汇集为一条管路 并通过真空阀与真空泵 连接。 6.根据权利要求1所述的一种等离子清洗系统， 其特征在于， 所述下壳体的至少一个侧 壁处设置有冷却口， 在所述冷却口内设置有风扇。 7.根据权利要求1所述的一种等离子清洗系统， 其特征在于， 还包括操作面板和开关， 所述开关、 真空泵、 升降装置、 RF视频电源分别与配电箱之间电连接 。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 216679376 U 2一种等离 子清洗系统 技术领域 [0001]本实用新型 涉及等离 子清洗机领域， 尤其是 涉及一种等离 子清洗系统。 背景技术 [0002]等离子清洗主要是依靠等离子体中活性粒子 的“活化作用 ”达到去除物体表面污 渍的目的。 等离子体清洗技术的最大特点是不分处理对象的基材类型， 均可进 行处理， 对金 属、 半导体、 氧化物和大多数高分子材料， 如聚丙烯、 聚脂、 聚酰亚胺、 聚氯乙烷、 环氧、 甚至 聚四氟乙烯等都能很好地处理， 并可实现整体和局部以及 复杂结构的清洗。 等离子清洗机 已经步入人们的视野， 它的应用领域之广是显而易见的， 主要包括： 汽车制造行业、 塑料橡 胶行业、 光电制造行业、 金属及涂装 行业、 化纤及纺织行业、 印刷及喷码行业等。 随着国家供 给改革及环保督察力度的加大， 各行业标准的不断提高， 对于这种无污染， 高可靠性等离子 清洗设备 的需求不断增多。 尤其是最近几年来5G和电动汽车的迅速发展， 造成全球芯片供 应短缺， 对等离 子清洗系统的要求越来越多。 [0003]目前消费电子、 5G、 新能源汽车等行业发展迅猛， 对半导体的需求不断增加， 倒逼 行业内各工序工艺的提升， 对等离子体清洗设备 的要求也越来越高， 促使等离子清洗设备 向着更高， 更快， 更强发展。 尤其是工业4.0的飞速发展， 对等离子清洗设备提出了更高的要 求， 要求具有更高的处 理效率， 更加智能化， 以及更好的处 理效果等特点。 实用新型内容 [0004]为解决上述问题， 本实用新型提出了一种等离 子清洗系统。 [0005]本实用新型的主要内容包括： 一种等离子清洗系统， 主要包括： 壳体、 反应腔、 RF射 频电源、 RF调谐网络、 真空泵和配电箱， 其中， 所述壳体包括： 上壳体、 下壳体和侧壳体， 所述 反应腔设置于下壳体上端面， 所述反应腔包括： 上腔 体和下腔体， 在所述侧壳体内设置有升 降装置， 所述上腔体连接于升降装置并可随升降装置升降， 所述反应腔 内设置有电极板组 件， 所述电极板组件与RF射频电源、 RF调谐网络之间电连接， 所述真空泵与反应腔之间管道 连接。 [0006]优选地， 所述上腔体包括： 反应腔上盖、 第一电极板， 所述反应腔上盖与第一上极 板之间形成第一密闭空间， 所述下腔体包括： 反应腔下盖、 第二电极板， 所述反应腔下盖与 第二电极板之间形成第二密闭空间， 所述第一密闭空间与第二密闭空间内分别通入冷却 液。 [0007]优选地， 所述上腔体与下腔体之间设置有密封装置 。 [0008]优选地， 所述真空泵与反应腔之间通过真空阀和抽真空管道连接 。 [0009]优选地， 所述抽真空管道具有多个均匀 分散的管路分别连接至反应腔， 多个管路 最终汇集 为一条管路并通过真空阀与真空泵连接 。 [0010]优选地， 所述下壳体 的至少一个侧壁处设置有冷却口， 在所述冷却口内设置有风 扇。说　明　书 1/3 页 3 CN 216679376 U 3