(19)中华 人民共和国 国家知识产权局 (12)发明 专利申请 (10)申请公布号 (43)申请公布日 (21)申请 号 202111582897.X (22)申请日 2021.12.2 2 (71)申请人 歌尔光学 科技有限公司 地址 261061 山东省潍坊市高新区清池街 道永春社区惠贤路3999号歌尔光电产 业园三期1号厂房 (72)发明人 阚立峰　张杰　陶淑林　任玉涛　 (74)专利代理 机构 北京博雅睿泉专利代理事务 所(特殊普通 合伙) 11442 代理人 王永亮 (51)Int.Cl. G03B 21/20(2006.01) G06F 30/10(2020.01) G06F 30/20(2020.01) G06F 119/14(2020.01) (54)发明名称 一种投影光机以及设计方法 (57)摘要 本公开实施例公开了一种投影光机以及设 计方法。 该投影光机包括： 壳体、 光源、 分光元件 和遮挡装置， 在所述壳体内构造有腔体， 所述光 源、 所述分光元件和所述遮挡装置被 设置在所述 腔体内， 所述分光元件位于所述光源的光路上， 所述遮挡装置被构造为用于对由所述分光元件 出射的无用光形成遮挡。 通过在壳体内部设置遮 挡装置， 能够避免壳体内部构 件因长期照射设定 波长的光而在构件上析出的异物， 进而提高构 件 的力学性能， 防止壳体内部 污染。 权利要求书1页 说明书6页 附图4页 CN 114415456 A 2022.04.29 CN 114415456 A 1.一种投影光机， 其特征在于， 包括壳体、 光源、 分光元件和遮挡 装置， 在所述壳体 内构 造有腔体， 所述光源、 所述分光元件和所述遮挡装置被设置在所述腔 体内， 所述分光元件位 于所述光源的光路上， 所述遮挡装置被构 造为用于对由所述分光元件出射的无用光形成遮 挡。 2.根据权利要求1所述的投影光机， 其特征在于， 所述遮挡 装置设置于所述分光元件与 所述壳体之间、 由所述分光元件透射或者反射的无用光形成的光路上。 3.根据权利要求1所述的投影光机， 其特征在于， 所述遮挡装置对波段为380nm ‑780nm 的所述无用光的反射 率≤4％。 4.根据权利要求3所述的投影光机， 其特 征在于， 所述无用光的波段为380nm ‑505nm。 5.根据权利要求1所述的投影光机， 其特征在于， 所述遮挡 装置被粘接在所述壳体的侧 壁上。 6.根据权利要求1所述的投影光机， 其特征在于， 所述遮挡 装置嵌设在所述壳体的侧壁 上。 7.根据权利要求1所述的投影光机， 其特征在于， 所述壳体包括相对设置的盖体和底 部， 由所述盖体和/或所述底部向所述腔体内延伸， 以形成所述遮挡装置 。 8.根据权利要求1 ‑7中的任意一项所述的投影光机， 其特征在于， 所述遮挡装置具有内 凹的弧面， 在所述弧面上构造有凸起， 所述凸起被构造为用于对被所述弧面反射的所述无 用光形成遮挡。 9.根据权利要求1 ‑7中的任意一项所述的投影光机， 其特征在于， 所述遮挡装置的表面 被构造有泡沫状结构。 10.一种投影光机设计方法， 应用于如权利要求1～9任一项所述的投影光机， 其特征在 于， 所述方法包括： 分析光源中无用光成分； 通过光路仿真模拟确定无用光投射 光斑的位置； 设计遮挡装置的结构并选材； 验证所述遮挡装置是否能完全对所述光斑形成遮挡， 在为否的条件下， 执行所述设计 遮挡装置的结构并选材步骤； 在为是的条件下， 进行长期点亮验证， 以判断在设定时长点亮下， 所述遮挡装置是否有 异物析出； 在为是的条件下， 执 行所述设计遮挡装置的结构并选材步骤。权　利　要　求　书 1/1 页 2 CN 114415456 A 2一种投影光机以及设计方 法 技术领域 [0001]本发明涉及影 像装置领域， 更 具体地， 涉及一种投影光机以及设计方法。 背景技术 [0002]目前行业内投影光机一般使用LED灯提供所需光源， 但LED灯含有波长较短、 能量 较高的蓝光成分， 当蓝光成分不参与投影工作时， 一般会将其引导至非有效光路区域， 例如 会投射到光机内的注塑件上。 注塑件材料如聚苯硫醚(PPS)等， 经过长时间蓝光照射， 注塑 件表面会析 出异物， 导致注塑件力学性能受损， 光机内部 污染。 [0003]因此， 需要提供一种新的技 术方案， 以解决上述 技术问题。 发明内容 [0004]本发明的一个目的是提供一种投影光机的新 技术方案。 [0005]根据本发明的第一方面， 提供了一种投影光机。 该投影光机包括： 壳体、 光源、 分光 元件和遮挡装置， 在所述壳体内构造有腔 体， 所述光源、 所述分光元件和所述遮挡装置被设 置在所述腔体内， 所述分光元件位于所述光源的光路上， 所述遮挡装置被构造为用于对由 所述分光元件出射的无用光形成遮挡。 [0006]可选地， 所述遮挡装置设置于所述分光元件与所述壳体之间、 由所述分光元件透 射或者反射的无用光形成的光路上。 [0007]可选地， 所述遮挡装置对波段为380nm ‑780nm的所述无用光的反射 率≤4％。 [0008]可选地， 所述无用光的波段为380nm ‑505nm。 [0009]可选地， 所述遮挡装置被粘接在所述壳体的侧壁上。 [0010]可选地， 所述遮挡装置嵌设在所述壳体的侧壁上。 [0011]可选地， 所述壳体包括相对设置的盖体和底部， 由所述盖体和/或所述底部向所述 腔体内延伸， 以形成所述遮挡装置 。 [0012]可选地， 所述遮挡装置具有内凹的弧面， 在所述弧面上构造有凸起， 所述凸起被构 造为用于对被所述弧面反射的所述无用光形成遮挡。 [0013]可选地， 其特 征在于， 所述遮挡装置的表面被构造有泡沫状结构。 [0014]根据本发明的另一个方面， 提供了一种投影光机设计方法， 该设计方法应用于上 述任一项所述的投影光机， 包括： [0015]分析光源中无用光成分； [0016]通过光路仿真模拟确定无用光投射 光斑的位置； [0017]设计遮挡装置的结构并选材； [0018]验证所述遮挡装置是否能完全对所述光斑形成遮挡， 在为否 的条件下， 执行所述 设计遮挡装置的结构并选材步骤； [0019]在为是的条件下， 进行长期点亮验证， 以判断在设定时长点亮下， 所述遮挡装置是 否有异物析出；说　明　书 1/6 页 3 CN 114415456 A 3