ICS.71.040.40 N33 中华人民共和国国家标准 GB/T20176—2006/ISO14237:2000 表面化学分析二次离子质谱用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度 Surface chemical analysisSecondary-ion mass spectrometry-Determination of boron atomic concentration in silicon using uniformly doped materials (ISO14237:2000,IDT) 2006-03-27发布 2006-11-01实施中华人民共和国国家质量监督检验检疫总局发布中国国家标准化管理委员会 GB/T20176—2006/ISO14237:2000 目次前言引言范围 2 规范性引用文件 3 原理 4 参考物质 5 仪器 6 样品 1 步骤 8 结果表述测试报告附录A（资料性附录) 硅片中载流子浓度的确定附录B(资料性附录) 用SIMS测量硼同位素比附录C(规范性附录) 仪器性能的评估步骤 10 附录D(规范性附录) NISTSRM2137深度剖析步骤 12 ，附录E(资料性附录) 巡回测试统计报告 14

GB-T 20176-2006 表面化学分析二次离子质谱用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

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GB-T 20176-2006 表面化学分析 二次离子质谱 用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度

GB-T 20176-2006 表面化学分析二次离子质谱用均匀掺杂物质测定硅中硼的原子浓度